石材如何打磨抛光？

新铺的大理石地面应该怎样专业打磨抛光？
大理石地面开始铺上时还是很漂亮，如果长期不加保护，就会失去光泽，出现磨损现象，而失去其应用价值。
在以前没有大理石晶面处理技术之前，保护方式是打蜡，但石质的反光和蜡层的反光不一致，所以，石地面一经打蜡就会模糊一片，失去通晰的反光效果。况且，打蜡就要定期起蜡，而起蜡水大都属强碱性，大理会因为碳酸钙被腐蚀而迅速老化。花岗石的石英抗腐蚀性很高，但长石及云母却不耐腐蚀，于是麻点不断扩大加深，变得凸凹不平。　
晶面处理是目前最理想的石面保养方式，其原理是利用晶硬剂加上地刷机对石面的磨擦，在化学及物理双重作用之下，使地面表层形成坚硬致密的晶硬层，令石面不易受损，也不易粘染污渍。　　　石材晶面处理并没有改变石质的结构，也并非涂上一屋覆疬物，所以，不改变原石的质感。而经过晶硬处理之后，石面分子更致密，光泽度明显提高，使石面更美丽、更高贵。经过晶硬处理的石面是不怕水的，可以正常的洗地或拖地。然则，市面上有些所谓晶硬剂，其实是一些胶性涂层，一经过水，或者下雨天，地面就一塌湖涂。　

石材晶面处理应该从新石面，或翻新的石面开始，并作经常性日常保养处理，令石面保持完美，历久常新。　晶硬处理有修补作用，可以使轻微受损的地面回复平滑明亮，但严重受损的地面，应先翻新，然后晶硬处理。　石材翻新　石材晶面处理，必须在平滑的石面才可以有理想的效果。

旧的石材地面怎样翻新、打磨抛光？
根据石面磨损程度分为轻度翻新、浅度翻新、深度翻新等三种方式。
其实从新石面使用开始就保持晶硬处理，石面可以一直保持完美状态。即使门口或路中间人多的地方出现轻微磨损，也只须隔一段时间进行一次轻度翻新，而浅度翻新及深度翻新只是在日久失保养的石面使用。　翻新机械　如果进行轻度翻新，任何优质的低速地刷机均可，而浅度翻新及深度翻新则必须用专业加重机，才能达到好的效果。

1、干磨，用石材翻新机给大理石去皮。去除石材表面脏污，打开石材毛细孔。
2、处理石材脏污 配合化学试剂去除石材脏污
3、防水 防止后期湿磨时，污水渗入石材内部
4、切缝、填缝 统一切缝，补胶，为了整体美观度
5、湿磨，水磨片 从50 150 300 500 1000 2000 3000 依次打磨。目前国内也有3步翻新片，节省施工时间
6、1000 2000 3000已经属于细磨抛光（整体翻新中的），如简单抛光:起蜡（如果有打蜡）、清洁、用钢丝棉或兽毛垫打磨。
7、表面结晶（封釉对于瓷砖） 用晶面机配合百洁垫和结晶粉，在石材表面做一层防护层，防止脏污渗透进入石材内部也可以起到一定的防划伤功能。同时提升石材亮度。有效防护期1年左右。
8、打蜡 功能类似步骤7.它的有效期基本在3个月。

石材的美观，除产品颜色外，主要反映在产品的光泽度上，故产品的抛光是很重要、关键的环节，如何将产品抛光达到最佳效果，首先要了解抛光的材料、方法、原理。
抛光材料主要是氧化铬（Cr2O3）、白刚玉（M1.0）、氧化铝（Al2O3）、草酸（COOH2）。

抛光磨石一般有两种：树脂抛光块；树脂抛光盘。

产品的抛光：将抛光磨石放在被加工的产品上，用机械设备快速运转及“干抛光、湿抛光”来达到抛光效果，产品表面会出现很强的反射光，这是通常所说的光泽度。

抛光的原理主要反映在2个方面：微粒研磨原理；物理化学原理。

1、微粒研磨：当磨料颗粒由粗磨到粗磨、抛光时，磨料在石材表面磨削的痕迹由粗到细再到无肉眼看到的痕迹，表面便呈现光滑、平整、细腻，当深度达110微米时，被加工面出现镜面光泽，光彩照人，色泽鲜艳。

微粒研磨由以下几道工序组成：

①粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的纹路粗，磨出的表面较粗糙，主要清除产品在前道工序中留有的锯片痕迹并将产品的平整度，造型面磨削到位；
②半细磨：将粗磨痕迹清除，形成新的较细的纹路，产品加工面平整、顺滑；
③细磨：细磨后的产品花纹、颗粒、颜色已清楚地显示出来，表面细腻、光滑，开始有微弱的光泽度；
④精磨：加工后的产品，无肉眼察觉的痕迹。表面越来越光滑，光泽度约40~50度左右；
⑤抛光：表面明亮如镜，具有一定的镜面光泽度（85度以上）。

2、物理化学原理：抛光的过程有2个，即“干抛光与湿抛光”，抛光磨石在“干与湿”之间当石材产品发生物理化学作用，干抛光是在石材表面温度升高使水分蒸发，导致抛光磨石浓度增大，从而达到强化效果，产品光泽度开始达到了理想要求，光泽度达85度以上或更高。

抛光磨石在被加工产品上抛光，待抛光产品烫手后，将板面加水量水，以起到降温作用，不允许连续加水或大量加水，否则，水的润滑作用将会使抛光达不到理想效果，也不能全部使用干抛光，过高的温度会烧坏板面，而且会使板面出现裂纹。

一般而言，产品精磨后，产品的光泽度在40~50左右，而有些石材精磨后达不到上面的光泽度，如山西黑、黑金砂、集宁黑等，此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间，用前面的微粒研磨原理解释不够一面，这种产品在抛光“干与湿”，温度的升高，降温中，强化抛光过程，发生物理化学反应，产品在经过“干抛光、湿抛光”中，光泽度逐步提高，光泽度达85度以上。